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簡(jiǎn)要描述：【無(wú)錫冠亞】是一家專(zhuān)注提供高低溫控溫解決方案的設(shè)備廠家，公司主要生產(chǎn)高低溫沖擊氣流儀（熱流儀）、chiller、超低溫制冷機(jī)、高低溫測(cè)試機(jī)機(jī)、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測(cè)、電池包氫能源等領(lǐng)域的可靠性測(cè)試提供整套溫度環(huán)境解決方案。多通道獨(dú)立控溫冷水機(jī) 封裝溫度控制Chiller
產(chǎn)品型號(hào)：FLTZ-204廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-02-27訪 問(wèn) 量：448| 品牌 | 冠亞恒溫 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
| 儀器種類(lèi) | 一體式 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車(chē)及零部件,電氣 |
多通道獨(dú)立控溫冷水機(jī) 封裝溫度控制Chiller
多通道獨(dú)立控溫冷水機(jī) 封裝溫度控制Chiller
光刻工藝是半導(dǎo)體制造中其中溫度控制對(duì)于確保光刻膠的均勻性和光刻過(guò)程的穩(wěn)定性影響比較大。以下是一些光刻工藝中溫度控制Chiller的應(yīng)用案例：
案例一：光刻膠儲(chǔ)存和處理的溫度控制
應(yīng)用描述：光刻膠對(duì)溫度非常敏感，其化學(xué)活性和粘度會(huì)隨溫度變化而變化。因此，維持光刻膠在儲(chǔ)存和處理過(guò)程中的適宜溫度是必要的。
解決方案：使用Chiller為光刻膠儲(chǔ)存和處理系統(tǒng)提供準(zhǔn)確的溫度控制，通常保持在5°C到10°C之間，以保持光刻膠的化學(xué)性能。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過(guò)維持適宜的溫度，提高了光刻膠的穩(wěn)定性和一致性，減少了光刻過(guò)程中因光刻膠性能變化引起的缺陷。
案例二：光刻機(jī)內(nèi)部環(huán)境的溫度控制
應(yīng)用描述：光刻機(jī)內(nèi)部的環(huán)境溫度對(duì)光刻精度有直接影響。溫度變化可能導(dǎo)致光刻機(jī)機(jī)械部件的熱膨脹或收縮，影響對(duì)準(zhǔn)精度。
解決方案：在光刻機(jī)內(nèi)部安裝Chiller系統(tǒng)，通過(guò)恒溫恒濕系統(tǒng)維持光刻車(chē)間的溫度在22°C±1°C范圍內(nèi)。
效果：光刻工藝溫度控制chiller準(zhǔn)確的溫度和濕度控制提高了光刻過(guò)程的穩(wěn)定性和重復(fù)性，減少了因環(huán)境變化引起的缺陷。
